СУТЬ ПРЕДЛАГАЕМОЙ ТЕХНОЛОГИИ
НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ С АССИСТИРОВАНИЕМ НЕЙТРАЛЬНЫМ ПУЧКОМ
При предварительной активации и при последующем сопровождении осаждения покрытий бомбардировкой ускоренными частицами изделия обрабатывают сильноточными пучками большого поперечного сечения быстрых нейтральных молекул.
Принцип действия оборудования:
Источник пучков обеспечивает непрерывную бомбардировку ускоренными частицами обрабатываемых поверхностей изделий.
Суммарный ток пучка при любой энергии частиц 50 эВ - 1000 эВ достигает 10 А, что соответствует диапазонам опорного напряжения и тока в цепи его источника при нанесении на современной промышленной установке проводящих покрытий.
Патентная защищенность технологии:
Разработанные для новой технологии уникальные сильноточные источники быстрых нейтральных молекул защищены патентом Российской Федерации № 2094896, Международной заявкой № PCT/RU97/00072 (публикация WO 97/36463) и заявкой на патент США № 09/155,336.
ПРОМЫШЛЕННЫЕ РЕЗУЛЬТАТЫ ВНЕДРЕНИЯ
ТЕХНОЛОГИИ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ
С АССИСТИРОВАНИЕМ НЕЙТРАЛЬНЫМ ПУЧКОМ
Для внедрения технологии в промышленном масштабе разработаны и запущены в опытную эксплуатацию три серии источников быстрых нейтральных молекул:
- с круглым сечением пучка диаметром до 250 мм;
- с прямоугольным сечением площадью до 1500 см 2 и длиной до 900 мм;
- азимутально симметричные цилиндрические источники длиной до 1метра с площадью эмиссии до 6000 см 2 .
Опытная эксплуатация источников пучков показала, что обработка быстрыми молекулами:
- улучшает адгезию и другие характеристики покрытий на стекле, керамике и пластмассах;
- позволяет снизить температуру процесса и наносить покрытия на низкотемпературные материалы, например, при 80 - 100 0 С на пьезокерамику;
- исключает растравливание острых кромок и даже обеспечивает дополнительную заточку инструмента вместо характерного для стандартной технологии затупления режущих кромок.
ПЕРСПЕКТИВЫ РАЗВИТИЯ И ПРИМЕНЕНИЯ
ТЕХНОЛОГИИ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ
С АССИСТИРОВАНИЕМ НЕЙТРАЛЬНЫМ ПУЧКОМ
- Расширение диапазона покрываемых материалов и номенклатуры обрабатываемых изделий;
- Регулировка в широком диапазоне параметров покрытий: плотности, микротвердости, остаточных напряжений и других характеристик;
- Замена высокотемпературного метода химического осаждения пара низкотемпературным синтезом керамических покрытий, например, из Si3N4 и Al2O3, при температуре порядка 100 0 С;
- Разработка серийной установки для нанесения покрытий на инструмент из непроводящей керамики;
- Разработка специализированной установки для изготовления с помощью нейтральных пучков изделий микроэлектроники, которая позволит исключить дефекты структуры, индуцируемые ионными пучками.