Разработана технология плазмонной литографии

 


Новая методика позволяет создавать линейные микроструктуры характерным размером 80 нм со скоростью до 12 м/с. Имеется значительный потенциал дальнейшего совершенствования системы и расширения ее характеристик. В частности, полагают разработчики, характерный размер строящегося с помощью такой системы «рисунка» может быть доведен до 10 или до 5 нм.


Источник: CNews.ru